超纯水的水质直接关系到半导体成品率
在半导体生产中,超纯水可用于晶圆漂洗、化学稀释、化学机械研磨、洁净室环境的加湿源等。超纯水的直接关系到半导体的成品率,edi纯水设备,随着半导体元件尺寸的缩小和细度的提高,对超纯水的技术要求也在不断提高。
在超纯水生产过程中,电子纯水设备,只要微粒子、电阻率和toc与气泡中的某一指标稍有差异,就会使半导体元件生产的合格率下降。
超纯水设备技术应用 出水符合电镀行业用水需要电镀工艺作为一项重要的表面工程技术,自1840年应用于镀银以来,已有160多年的历史。20世纪以来,随着科技的进步和工业化水平的不断提高,电镀在汽车、机械设备、造船、航空航天、电子、轻工等行业的产品表面处理中不可少。目前,电镀已由一般的装饰防护向高耐腐蚀、功能化发展。随着电镀新工艺、新材料、新设备的不断开发与应用,电镀工业创造了新局面,应用领域不断拓大。
edi膜堆主要由交替排列的阳离子交换膜、浓水室、阴离子交换膜、淡水室和正、负电极组成。离子交换树脂充夹在阴阳离子交换膜之间形成单个处理单元,并构成淡水室,单元与单元之间用网状物隔开,形成浓水室。在直流电场的作用下,淡水室中离子交换树脂中的阳离子和阴离子沿树脂和膜构成的通道分别向负极和正极方向迁移,电子超纯水设备,阳离子透过阳离子交换膜,天津纯水设备,阴离子透过阴离子交换膜,分别进入浓水室形成浓水。同时edi进水中的阳离子和阴离子跟离子交换树脂中的氢离子和氢氧根离子交换,形成超纯水(高纯水)。超---电流使水电解产生的大量氢离子和氢氧根离子对离子交换树脂进行连续的再生。传统的离子交换,离子交换树脂饱和后需要化学间歇再生。而edi膜堆中的树脂通过水的电解连续再生,工作是连续的,不需要酸碱化学再生。
edi装置将给水分成三股独立的水流:纯水、浓水、和极水。纯水(90%-95%)为终得到水,浓水(5%-10%)可以再循环处理,极水(1%)排放掉。
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